在电子产品应用领域不断扩大的今天，半导体对我国的发展意义重大。半导体所涉及的行业很广，根据原料和工艺的不同，所产生的废水性质也不同，但都具有排水量大、污染能力强的特点。按半导体污水处理企业的特点，将半导体废水分为三大类，分别来自于生产过程中产生的含氟废水、有机废水和金属离子废水。

含氟废水：废水主要来自半导体生产工序的腐蚀段，由于使用了大量的氢氟酸、氟化铵等试剂，污染物浓度较高，如氟、氨等，废水一般呈强酸性；

处理办法：将废水的p H值调整在6-7左右，再加入的过量的Ca Cl2和适量的絮凝剂，后续会行形成沉淀，部分污泥循环成为载体，在沉淀池中通过重力沉降能够实现泥水分离。第一次反应时能够去除80%的氟，再一次加入絮凝剂，氟化钙及其其他形态沉淀，利用污泥泵输送到污泥沉淀池,用板框式脱水机压成泥饼外运，这时候产生的压滤液进入其他的系统进一步处理。

有机废水，其污染物主要是一些常规污染物，生产浓度与生产工艺和运行管理水平密切相关。半导体生产废水中的金属离子种类很多，主要有铜、镍、锡、铅、银等。金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

半导体污水除了除了以上方法以外，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

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